ASML
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연표
1984
[ASML 창립]
네덜란드의 필립스와 ASMI의 합작으로 ASML이 설립되었습니다. 사명은 'ASM Lithography'의 약어에서 유래했습니다.
ASML은 1984년 4월 1일, 네덜란드의 거대 기업 필립스와 필립스에서 분사한 반도체 제조 장비 기업 ASMI의 합작으로 탄생했습니다. 회사 이름 'ASML'은 'ASM Lithography'의 약자이며, 이는 반도체 제조의 핵심 공정인 리소그래피 장비 분야에서 회사의 정체성을 명확히 보여줍니다.
1988
1988년, ASML은 필립스와 ASMI의 합작 형태에서 벗어나 독립적인 회사로 운영되기 시작했습니다. 비록 독립했지만, 필립스는 여전히 ASML의 일부 지분을 유지하며 간접적인 관계를 이어갔습니다.
2010
[시장 점유율 67% 달성]
ASML은 반도체 리소그래피 공정 장치 시장에서 67%라는 압도적인 점유율을 기록하며 업계 선두 주자로 자리매김했습니다.
2010년 집계에 따르면, ASML은 전 세계 반도체 리소그래피 공정 장치 시장에서 67%에 달하는 점유율을 확보하며 독보적인 위치를 구축했습니다. 이는 경쟁사인 캐논, 니콘과의 기술 격차를 크게 벌리며 반도체 제조 장비 업계의 강자로 부상했음을 보여줍니다.
2012
[인텔의 ASML 지분 투자]
미국의 인텔이 극자외선(EUV) 리소그래피 공정 개발 가속화를 위해 ASML 지분 15%를 인수하고 41억 달러를 투자했습니다. 이는 ASML의 기술력을 인정한 주요 파트너십입니다.
2012년 7월 9일, 세계적인 반도체 기업인 인텔은 ASML의 극자외선(EUV) 리소그래피 공정 기술 개발을 가속화하기 위해 ASML 지분 15%를 인수하며 총 41억 달러를 투자하는 대규모 협력을 발표했습니다. 이 투자는 ASML의 EUV 기술이 미래 반도체 산업의 핵심이 될 것임을 방증하는 사건이었습니다. 이후 중화민국 TSMC, 대한민국 삼성전자도 비슷한 이유로 지분을 투자하며 ASML의 독점적 기술력에 대한 업계의 높은 기대를 보여주었습니다.
2017
[EUV 장비 대량 출하 시작]
ASML이 한 해 동안 12대의 극자외선(EUV) 장비를 성공적으로 출하하며, 차세대 반도체 제조 기술의 선두 주자로서의 입지를 확고히 했습니다.
2017년 한 해 동안 ASML은 총 12대의 극자외선(EUV) 장비를 출하하는 데 성공했습니다. 이는 EUV 기술이 연구 단계를 넘어 실제 반도체 생산 라인에 적용되기 시작했음을 의미하며, ASML이 최첨단 반도체 제조 장비 시장에서 독보적인 기술력을 상업적으로 증명한 중요한 사건입니다.
2019
[미국 정부의 대중국 수출 제한 보도]
미국 연방 정부가 ASML의 EUV 노광 장비가 중국으로 수출되는 것을 막고 있다는 내용이 보도되었습니다. ASML은 네덜란드 정부의 수출 허가를 기다리는 중이라고 밝혔습니다.
2019년 11월 8일, 미국 연방 정부가 첨단 기술 유출 방지를 명분으로 ASML의 핵심 기술인 극자외선(EUV) 노광 장비가 중국에 수출되는 것을 막고 있다는 외신 보도가 나왔습니다. 이에 대해 ASML 측은 네덜란드 정부의 수출 허가를 기다리는 중일 뿐이라고 해명하며, 이 사안은 국제적인 기술 패권 경쟁의 단면을 보여주는 사건으로 주목받았습니다.
